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Thin film samples of hydrogenated amorphous silicon nitride with varying nitrogen content were prepared by conventional plasma deposition from a mixture of SiH4 and NH3 . The dark conductivity (sd) of...
The electrical properties of a-Si:( H ) and a- SiN ):( H ) films prepared by plasma deposition from SiH4+NH3 gas mixtures have been investigated. We observed anomalous peaks in the temperature depende...

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